哪些产品需要做气相沉积
...磁控组件、物理气相沉积装置及方法、控制装置专利,产品性能得以提升电磁铁为多个，多个电磁铁均与电控器件电性连接，并用于布置于背板上，电控器件用于控制各个电磁铁通电与断电，以及用于调整各个电磁铁的电流大小。上述的磁控组件、物理气相沉积装置及方法、控制装置，能改善保型性，适应性较广，同时能避免出现漏水现象，产品性能得以提升。本文等我继续说。
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拓荆科技下跌5.14%,报121.8元/股其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积设备等，应用于集成电路晶圆制造等高端技术领域。拥有覆盖全球的供应商网络，公司产品已服务于北京、上海、武汉等20多个地区的60多条生产线，并且已形成具有高科技研发实力及管理经验的国际化专业团队。截至6月30日后面会介绍。
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和远气体:电子级硅烷将用于气相沉积法生产硅碳负极金融界2月26日消息，有投资者在互动平台向和远气体提问：公司即将投产的气体中，有下游用于硅碳负极材料电池方面的吗？电子硅系列产品应该可以用在其中！公司回答表示：您主要是指电子级硅烷用于气相沉积法生产硅碳负极吧，这应该是将来一个比较明确的用途。本文源自金融界AI电报
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云涂科技完成Pre-A轮融资 加快百公斤级物理气相沉积制备功能包覆...智通财经APP获悉，据“沃衍资本”公众号报道，近日，国内物理气相沉积干法制备超细包覆粉体龙头企业-宁波云涂科技有限公司(下称：云涂科技)完成Pre-A轮融资。本轮融资由沃衍资本独家投资，此次融资将用于企业百公斤级物理气相沉积制备功能包覆粉体的设备设计定型、新产品研发和是什么。
...代半导体GaN材料的金属有机物化学气相沉积设备提供核心材料和部件安泰科技在互动平台表示，公司可以为生产第三代半导体GaN材料的金属有机物化学气相沉积设备提供核心材料和部件。同时，公司开发的高性能非晶、纳米晶产品是随着第三代半导体发展而受益的配套功能器件。公司目前未直接与通信企业合作。本文源自金融界AI电报
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拓荆科技下跌5.0%,报125.51元/股其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积设备等，应用于集成电路晶圆制造等高端技术领域。拥有覆盖全球的供应商网络，公司产品已服务于北京、上海、武汉等20多个地区的60多条生产线，并且已形成具有高科技研发实力及管理经验的国际化专业团队。截至3月31日小发猫。
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金宏气体(688106.SH):特气产品在集成电路客户导入的速度相对较慢格隆汇1月29日丨金宏气体(688106.SH)近日在接待机构投资者调研时表示，特气产品在集成电路客户导入的速度相对较慢。公司的特气产品因其涉及到气相沉积等工艺，需要较长的测试周期。但导入客户以后，再次被替代的可能性相对较小。免责申明：内容来源于网络，若侵犯了您的权益，请说完了。
微导纳米:拟发行可转债募资不超11.7亿元 用于半导体薄膜沉积设备...将全部投资于半导体薄膜沉积设备智能化工厂建设项目、研发实验室扩建项目以及补充流动资金。半导体薄膜沉积设备智能化工厂建设项目主要生产半导体领域iTomic 系列和iTronix系列产品，其涉及原子层沉积和化学气相沉积两大类设备。本文源自金融界AI电报
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培育钻石大揭秘:HPHT VS CVD,哪种方式更胜一筹?在选择培育钻石时，顾客往往需要在HPHT(高温高压法)和CVD(化学气相沉积法)两种技术中作出抉择。然而，这两种方法制造的钻石在基本属性上并无显著差异。HPHT与CVD均为现代科技在珠宝行业的创新应用，它们都能够创造出外观和质感与自然钻石相同的产品。通过这两种技术生产等会说。
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微导纳米:公司主营产品为先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产...金融界3月28日消息，有投资者在互动平台向微导纳米提问：你好，你们公司的主营产品是什么？公司回答表示：公司已经形成了以原子层沉积(ALD)技术为核心，化学气相沉积(CVD)等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售，向下游客户等会说。
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